特許

J-GLOBAL ID：200903085046514689

反射体又はミラーの製造方法及び反射体

発明者： ウルリヒ パペンブルク ,  ペーター ゲトケ ,  エルンスト ブレンニガー
出願人/特許権者： インダストリーアンラーゲン-ベトリープスゲゼルシャフト ミット ベシュレンクター ハフツンク
代理人 (1件)： 小野 由己男 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-071238
公開番号（公開出願番号）：特開平7-198917
出願日： 1993年03月05日
公開日（公表日）： 1995年08月01日
要約：

【要約】【目的】 機械的性質及び熱的性質が改善された反射体又はミラーの製造を容易にする。【構成】 軽量な反射又は鏡面構造を作るために、充分な厚みの金属シリコンが、製造されるべきコンポーネントの寸法を持つCFC又はCMC基質プレフォーム構造に対して熱処理、特に1300〜1600°Cの間の温度による真空下又は保護ガス下での熱処理により融着される。この方法により、反射又は鏡面構造は、直接形成される。シリコンが、非鉄金属を用いた溶融共融体の一層により基質フォームに結合されるウエハーの形で施されるときには、作業は300〜600°Cの間の温度で可能である。非鉄金属は金であることが望ましい。

請求項（抜粋）：

電磁波を反射するための反射体又はミラーの製造方法であって、反射体又はミラーの基質構造を形成するために高温に耐え得る材料を用いてプレフォームを作成する工程と、一定の方向に電磁波を反射することのできる表面を形成するために、前記基質構造の少なくとも片面に熱処理により金属シリコンの外層を形成する工程と、を含む反射体又はミラーの製造方法。