特許
J-GLOBAL ID：200903085051363427
防曇性被膜形成基材、これを用いた防曇膜及びその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-061620
公開番号（公開出願番号）：特開平9-227157
出願日： 1996年02月26日
公開日（公表日）： 1997年09月02日
要約：
【要約】【課題】 初期防曇性とその持続性に優れるとともに、電波透過性と優れた断熱性を有する防曇性被膜形成基材、これを用いた防曇膜及びその製造方法を提供する。【解決手段】 少なくともチタニアを含む金属酸化物と導電性金属酸化物超微粒子とを含有する防曇性被膜形成基材である。この防曇性被膜形成基材から成る防曇性膜を、透明基板上に被覆して成る防曇膜である。少なくともチタニアゾルを含む金属酸化物ゾルと導電性金属酸化物超微粒子とを含有する複合ゾルを、透明基板上に塗布し、300〜850°Cで焼成する製造方法である。
請求項（抜粋）：
チタニアを含む金属酸化物と導電性金属酸化物超微粒子とを含有することを特徴とする防曇性被膜形成基材。
IPC (2件)：
FI (2件)：
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