特許

J-GLOBAL ID：200903085051364636

ポジ型化学増幅系レジスト

発明者： 梶田 徹 ,  大田 利幸 ,  辻 昭 ,  小林 秦隆
出願人/特許権者： 日本合成ゴム株式会社
代理人 (1件)： 大島 正孝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-344419
公開番号（公開出願番号）：特開平6-194840
出願日： 1992年12月24日
公開日（公表日）： 1994年07月15日
要約：

【要約】【構成】 (1)感放射線性酸発生剤 および(2)下記式(1A)および(1B)で示される単位を有する樹脂、【化1】を含有することを特徴とするポジ型化学増幅系レジスト。【効果】 本発明によれば、耐熱性、現像性、パターン形状、解像度、感度等に優れ、幅広い波長領域の照射線に感応しうるレジストが提供される。特に、アルカリ不溶性表層膜形成が有効に抑止されたポジ型化学増幅型レジストが提供される。

請求項（抜粋）：

(1)感放射線性酸発生剤 および(2)下記式(1A)および(1B)で示される単位を有する樹脂【化1】(上記式において、R1aおよびR1bは同一または異なり、炭素数1〜4のアルキル基、炭素数1〜4のアルコキシ基、炭素数6〜10のアリール基または炭素数7〜9のアラルキル基を示し、R2a、R2b、R3aおよびR3bは同一または異なり、水素原子、炭素数1〜4のアルキル基、炭素数6〜10のアリール基または炭素数7〜9のアラルキル基を示し、R4およびR5は同一または異なり、水素原子、炭素数1〜4のアルキル基、炭素数1〜4のアシル基または炭素数6〜10のアリール基を示し、pおよびp’は0〜3の整数、qおよびq’は1〜4の整数、rは1〜4の整数を各々示す)を含有することを特徴とするポジ型化学増幅系レジスト。

IPC (5件)：

G03F 7/039 501 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/023 511 ,  G03F 7/028 ,  H01L 21/027