特許

J-GLOBAL ID：200903085055681032

不完全縮合オリゴシルセスキオキサンの製造方法

発明者： 川上 雄資 ,  大井 册雄 ,  山本 洋之 ,  新家 悟之
出願人/特許権者： 小西化学工業株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-118083
公開番号（公開出願番号）：特開2009-263316
出願日： 2008年04月30日
公開日（公表日）： 2009年11月12日
要約：

【課題】完全縮合型POSSの骨格の再配列により、不完全縮合POSS誘導体を得る新規な製造方法の提供。【解決手段】一般式(1) [式中、Phはフェニル基を表す。]で示される完全縮合オクタフェニルオクタシルセスキオキサンを、水-アルコール溶媒中、アルカリの共存下、加水分解反応させることを特徴とする不完全縮合POSS誘導体の製造方法。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

一般式(1)

IPC (1件)：

C07F 7/21

FI (1件)：

C07F7/21

Fターム (21件)：

4H039CA92 ,  4H039CE20 ,  4H049VN01 ,  4H049VP04 ,  4H049VP07 ,  4H049VP08 ,  4H049VP09 ,  4H049VQ79 ,  4H049VQ88 ,  4H049VR21 ,  4H049VR42 ,  4H049VR43 ,  4H049VS12 ,  4H049VS79 ,  4H049VT03 ,  4H049VT23 ,  4H049VV02 ,  4H049VV05 ,  4H049VV16 ,  4H049VV20 ,  4H049VW33