特許

J-GLOBAL ID：200903085070354110

光ディスクの製造方法

発明者： 吉田 美喜男 ,  深谷 正栄
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 小池 晃 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-315730
公開番号（公開出願番号）：特開平6-150402
出願日： 1992年10月30日
公開日（公表日）： 1994年05月31日
要約：

【要約】【目的】 光ディスク基板上に紫外線硬化樹脂をスピンコートして保護膜を形成する際のムラの発生を防止し、品質の高い光ディスクを製造可能とする。【構成】 光ディスク上に樹脂供給部より樹脂を供給した後、光ディスクを回転しながら高速振切部へと移送する。しかる後、高速回転により紫外線硬化樹脂のスピンコートを行い保護膜を形成する。移送の際の光ディスクの回転数は5〜300rpmである。

請求項（抜粋）：

樹脂供給部にて光ディスク上に樹脂を供給した後、上記光ディスクを高速振切部に移送して高速振切を行う光ディスクの製造方法において、光ディスクを回転させながら樹脂供給部から高速振切部に移送することを特徴とする光ディスクの製造方法。