特許
J-GLOBAL ID：200903085080611987
紫外線処理装置及び紫外線処理方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
國分 孝悦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-290248
公開番号（公開出願番号）：特開2001-118818
出願日： 1999年10月12日
公開日（公表日）： 2001年04月27日
要約：
【要約】【課題】 表面洗浄・表面処理のために紫外光反応システムを構成し、従来の化学反応システムでは達成できない処理速度と装置サイズを実現し、タイムシェアリング性能・高スループット性能・コンパクトサイズの実現を図る。【解決手段】 空気、ガス及び水に対する透過距離がそれぞれ2mm以上となる波長のエキシマ紫外線を光源とするエキシマ紫外線ランプ1を用いて、枚葉式の基板チャンバーに12に設置された基板3の表面処理(表面洗浄処理など)を行なう。
請求項（抜粋）：
半導体装置又は液晶表示装置の製造に関わる表面及び材料の浄化に用いられる紫外線処理装置であって、空気、水、水蒸気及びガスに対する50%透過距離がそれぞれ2mm以上となる波長の紫外線を照射する紫外線ランプを光源として備えることを特徴とする紫外線処理装置。
IPC (3件)：
H01L 21/304 645
, B08B 7/00
, C02F 1/32
H01L 21/304 645 D
, B08B 7/00
, C02F 1/32
3B116AA02
, 3B116AA03
, 3B116AB01
, 3B116AB34
, 3B116AB42
, 3B116BB11
, 3B116BC01
, 4D037AA01
, 4D037AA03
, 4D037AA11
, 4D037AB01
, 4D037BA18
, 4D037BB01
