特許
J-GLOBAL ID：200903085089197245
被覆微粒子の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
植木 久一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-246861
公開番号（公開出願番号）：特開平5-057166
出願日： 1991年08月31日
公開日（公表日）： 1993年03月09日
要約：
【要約】【目的】 超臨界状態または亜臨界状態にある溶媒中から、溶質を再現性良く析出・成長させて微粒子を製造することができ、また回収も容易で操作が簡単で、さらに装置の大形化が可能な単純な装置構成で、安価な被覆微粒子を製造できる方法を提供する。【構成】 SiO2 とLa2 O3 を夫々対応する第1溶媒と第2溶媒に別々に溶解して夫々を超臨界状態または亜臨界状態の第1系と第2系とした後、第1系を断熱膨張させ過飽和状態を経てSiO2の微粒子を生成し、これを再び第2系と同一の圧力まで昇圧してから第2系と混合し、その後この混合系を断熱膨張させ過飽和状態を経てSiO2 の微粒子表面にLa2 O3 を析出せしめて被覆微粒子を形成する。
請求項（抜粋）：
第1溶質と第2溶質を夫々対応する第1溶媒と第2溶媒に別々に溶解して夫々を超臨界状態または亜臨界状態の第1系と第2系とした後、第1系を断熱膨張させ過飽和状態を経て第1溶質の微粒子を生成し、これを再び第2系と同一の圧力まで昇圧してから第2系と混合し、その後該混合系を断熱膨張させ過飽和状態を経て上記第1溶質の微粒子表面に第2溶質を析出せしめて被覆微粒子を形成することを特徴とする被覆微粒子の製造方法。
IPC (4件)：
B01J 2/00
, C03B 19/08
, C03B 19/10
, C03C 11/00
