液体の処理方法及びその装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小谷悦司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-256345
公開番号（公開出願番号）：特開2003-062579
出願日： 2001年08月27日
公開日（公表日）： 2003年03月04日
要約：

【要約】【課題】放電経路を確保するために消費される電気エネルギーを低減して、液体を高効率に放電処理する方法及び装置を提供する。【解決手段】高電圧パルスを印加して電極間に放電状態を形成させ、高電圧パルス印加領域に存在する被処理液を処理する方法及び装置において、高電圧パルス印加領域への導入に先立って、該被処理液に気体を供給する。

請求項（抜粋）：

高電圧パルスを印加して電極間に放電状態を形成させ、高電圧パルス印加領域に存在する被処理液を処理する方法において、該高電圧パルス印加領域への導入に先立って、該被処理液に気体を供給し、該高電圧パルス印加領域に気泡を存在させることを特徴とする液体の処理方法。

IPC (11件)：

C02F 1/48 , B01F 3/04 , B01J 19/08 , C02F 1/50 510 , C02F 1/50 520 , C02F 1/50 , C02F 1/50 531 , C02F 1/50 560 , C02F 1/70 , C02F 1/74 , C02F 1/78

FI (13件)：

C02F 1/48 B , B01F 3/04 A , B01J 19/08 B , C02F 1/50 510 A , C02F 1/50 520 C , C02F 1/50 520 P , C02F 1/50 531 B , C02F 1/50 531 R , C02F 1/50 560 C , C02F 1/50 560 F , C02F 1/70 Z , C02F 1/74 Z , C02F 1/78

Fターム (36件)：

4D050AA03 , 4D050AA13 , 4D050AA15 , 4D050AB03 , 4D050AB04 , 4D050AB13 , 4D050AB19 , 4D050BA14 , 4D050BB01 , 4D050BB02 , 4D050BC10 , 4D050BD02 , 4D061DA03 , 4D061DA08 , 4D061DB01 , 4D061DB19 , 4D061DC03 , 4D061DC04 , 4D061DC08 , 4D061EA13 , 4D061EB01 , 4D061EB07 , 4D061EB17 , 4D061ED03 , 4D061ED20 , 4G035AB05 , 4G075AA15 , 4G075AA37 , 4G075BA05 , 4G075BA06 , 4G075BD13 , 4G075CA15 , 4G075CA51 , 4G075DA01 , 4G075EB01 , 4G075EC21

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