特許
J-GLOBAL ID:200903085119205523

黒膜作製装置

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-054789
公開番号(公開出願番号):特開平7-241512
出願日: 1994年03月02日
公開日(公表日): 1995年09月19日
要約:
【要約】【目的】黒膜製作装置において、小孔の幾何学的形状・小孔表面の化学的性質を制御することにより、再現性の良い安定な黒膜の作製を可能にする。【構成】ガラス基板等の平面性の良い基板に、エッチングなどにより一方の端面が鋭角であるような小孔をあけ、これに疎水化処理を含むパターニングを施す。この平面性の良い鋭角の端面に黒膜を展開すると、エッジのところにリン脂質分子が固定されるため、再現性の良い安定な黒膜が作製できる。
請求項(抜粋):
絶縁性の基板に少なくとも一方の角が鋭角となるような小孔をあけ、ここに黒膜を張ることを特徴とする黒膜作製装置。
IPC (2件):
B05C 17/06 ,  C03C 17/28
引用特許:
審査官引用 (5件)
  • 二分子膜作製基板
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平4-054714   出願人:株式会社東芝
  • 特開平2-035941
  • 特開昭58-143536
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