特許

J-GLOBAL ID：200903085131283750

露光方法及び露光装置

発明者： 川島 美代子
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 高梨 幸雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-201333
公開番号（公開出願番号）：特開2000-021753
出願日： 1998年06月30日
公開日（公表日）： 2000年01月21日
要約：

【要約】【課題】 高解像度のパターンが得られる露光方法及び露光装置を得ること。【解決手段】 第1物体面上のパターンを投影光学系により第2物体面上に投影露光する投影方法において、該投影光学系の解像力が最も良くなる方向と、該第1物体面上の微細パターンの回折光の出射方向とが一致するようにし、かつ該第2物体を第1物体に対して位置調整して投影露光していること。

請求項（抜粋）：

第1物体面上のパターンを投影光学系により第2物体面上に投影露光する投影方法において、該投影光学系の解像力が最も良くなる方向と、該第1物体面上の微細パターンの回折光の出射方向とが一致するようにしていることを特徴とする露光方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

FI (4件)：

H01L 21/30 502 C ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 514 B ,  H01L 21/30 528

Fターム (11件)：

5F046AA02 ,  5F046AA05 ,  5F046AA11 ,  5F046AA25 ,  5F046BA04 ,  5F046BA05 ,  5F046BA08 ,  5F046CA04 ,  5F046CC04 ,  5F046DA02 ,  5F046DD03