特許

J-GLOBAL ID：200903085131760400

フッ素含有シリコーン樹脂およびその製造方法、フッ素含有シリコーン樹脂組成物、フッ素含有塗布ガラス膜の形成方法および該膜のパターン形成方法

発明者： 伊東 敏雄 ,  小菅 眞樹
出願人/特許権者： 沖電気工業株式会社
代理人 (1件)： 大垣 孝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-342248
公開番号（公開出願番号）：特開平9-176320
出願日： 1995年12月28日
公開日（公表日）： 1997年07月08日
要約：

【要約】【課題】 化学的に安定な構造を有するフッ素含有シリコン酸化膜を形成するための原材料、およびそのような原材料を用いたフッ素含有シリコン酸化膜の形成方法を提供すること。【解決手段】 主鎖を構成するシリコン原子の中の一部または全部のシリコン原子に、それぞれフッ素原子が1つずつ結合している構成のフッ素含有シリコーン樹脂をフッ素含有シリコン酸化膜を形成するための原材料とする。このフッ素含有シリコーン樹脂と、好ましくは酸発生剤とでフッ素含有シリコーン樹脂組成物を構成する。この組成物の被膜を基板上に塗布し、加熱およびまたは露光を行う。

請求項（抜粋）：

主鎖を構成するシリコン原子のうちの一部または全部のシリコン原子に、それぞれフッ素原子が1つずつ結合していることを特徴とするフッ素含有シリコーン樹脂。

IPC (6件)：

C08G 77/24 NUH ,  C03C 3/00 ,  C08L 83/08 LRR ,  C09D183/08 PMS ,  H01L 21/312 ,  H01L 21/316

FI (6件)：

C08G 77/24 NUH ,  C03C 3/00 ,  C08L 83/08 LRR ,  C09D183/08 PMS ,  H01L 21/312 C ,  H01L 21/316 H