特許

J-GLOBAL ID：200903085135732916

スパッタリング装置におけるクライオポンプ再生方法

発明者： 小林 正彦 ,  山本 久
出願人/特許権者： 日電アネルバ株式会社
代理人 (1件)： 鈴木 正次
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-000475
公開番号（公開出願番号）：特開平7-208332
出願日： 1994年01月07日
公開日（公表日）： 1995年08月08日
要約：

【要約】【目的】 メインポンプをクライオポンプとしたスパッタリング装置のクライオポンプの再生時間を短縮できる方法を提供することを目的としている。またクライオポンプを再生中、スパッタリング室を真空保管できる方法を提供することも目的としている。【構成】 メインポンプをクライオポンプとしたスパッタリング装置のクライオポンプを再生する方法であって、前記クライオポンプの第2段熱負荷ステージを加熱しながら、クライオポンプ容器内を、スパッタリングで使用されたプロセスガスの三重点圧力以下の圧力に排気する。

請求項（抜粋）：

メインポンプをクライオポンプとしたスパッタリング装置のクライオポンプを再生する方法であって、前記クライオポンプの第2段熱負荷ステージを加熱しながら、クライオポンプ容器内を、スパッタリングで使用されたプロセスガスの三重点圧力以下の圧力に排気することを特徴とするスパッタリング装置におけるクライオポンプ再生方法。

IPC (2件)：

F04B 37/08 ,  C23C 14/00

引用特許：

審査官引用 (5件)

• 特開平3-258976
  
• 特開平2-294573
  
• 電子制御再生を有する極低温真空ポンプ
  公報種別：公表公報   出願番号：特願平6-519162   出願人：ヘリツクス・テクノロジー・コーポレーシヨン
• 特開平3-258976
  
• 特開平2-294573