特許
J-GLOBAL ID：200903085146050299
反射型マスクとその製造方法および修正方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-210614
公開番号（公開出願番号）：特開平5-055120
出願日： 1991年08月22日
公開日（公表日）： 1993年03月05日
要約：
【要約】【目的】欠陥修正が可能な反射型マスクを提供する。【構成】X線反射型マスクにおいて、中間部3をはさんで多層膜反射部2,4を二つ設ける。上層の多層膜反射部に欠陥がある場合、下層の多層膜反射部2を露出させて欠陥を修正する。【効果】反射型マスクの欠陥修正が可能となり、リソグラフィコスト低減の効果が大きい。
請求項（抜粋）：
基板上に、X線の反射部とX線を吸収する中間部およびX線の反射部が前記の順に形成され、前記上層の反射部がパターンに応じて形成されていることを特徴とする反射型マスク。
IPC (2件)：
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