特許

J-GLOBAL ID：200903085173078340

光ディスク原盤の現像方法及び装置

発明者： 細井 信幸
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 若林 忠
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-183683
公開番号（公開出願番号）：特開平8-050740
出願日： 1994年08月04日
公開日（公表日）： 1996年02月20日
要約：

【要約】【目的】 レーザー光の光路中に浮遊するミスト状の現像液や現像液面のゆらぎを除去して正確に現像停止位置を検出することのできる現像方法及び装置を提供する。【構成】 原盤の回転中心軸を重力方向に対して所定角度傾斜させて前記原盤を回転させつつ、所定量の現像液を収容した容器に前記原盤の一部を浸漬させて現像させ、かつ前記原盤の現像液に浸漬していない部分にレーザー光を入射させ、現像の進行に応じて生じる該レーザー光の回折光を検出し、前記検出された回折光の強度比が所定の値に達したとき前記フォトレジスト膜と前記現像液との接触を停止することを特徴とする現像方法及び装置。

請求項（抜粋）：

ガラス原盤上にフォトレジストを塗布してフォトレジスト膜を形成し、このフォトレジスト膜に光ビームを照射してピットまたはグルーブ形状に露光した後に、これを現像して光ディスク原盤を作成するようにした光ディスク原盤の製造装置において、前記原盤の回転中心軸を重力方向に対して所定角度傾斜させて前記原盤を回転させつつ、所定量の現像液を収容した容器に前記原盤の一部を浸漬させて現像させ、かつ前記原盤の現像液に浸漬していない部分にレーザー光を入射させ、現像の進行に応じて生じる該レーザー光の回折光を検出し、前記検出された回折光の強度比が所定の値に達したとき前記フォトレジスト膜と前記現像液との接触を停止することを特徴とする現像方法。