特許

J-GLOBAL ID：200903085174726460

欠陥分類装置および方法並びにプログラム

発明者： 大林 茂
出願人/特許権者： オムロン株式会社
代理人 (1件)： 松井 伸一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-236590
公開番号（公開出願番号）：特開2009-068946
出願日： 2007年09月12日
公開日（公表日）： 2009年04月02日
要約：

【課題】 画像特徴量の数の増加に関係なく欠陥の分類性能が向上する欠陥分類装置および方法並びにプログラムを提供すること【解決手段】 外観検査装置15から取得した検査対象品の画像データから画像特徴量を抽出する画像処理部26と、画像処理部で抽出された検査対象品の画像特徴量に対して主成分分析或や部分最小2乗法を行なって寄与率を求め、寄与率が高い画像特徴量を抽出し、抽出した画像特徴量から欠陥種別を決定する多変量解析処理部28と、を備える。同種の欠陥の場合、寄与率が高くなる画像特徴量も同じになるため、抽出された画像特徴量の組み合わせから欠陥分類が行なえる。【選択図】 図2

請求項（抜粋）：

検査装置で検出された欠陥の種別を分類する欠陥分類装置であって、 取得した検査対象品の画像データから画像特徴量を抽出する画像処理部と、 前記画像処理部で抽出された前記検査対象品の画像特徴量に対して多変量解析を行なって寄与率を求め、寄与率が高い画像特徴量を抽出し、抽出した画像特徴量から欠陥種別を決定する解析処理部と、 を備えたことを特徴とする欠陥分類装置。

IPC (3件)：

G01N 21/956 ,  H01L 21/02 ,  H01L 21/66

FI (4件)：

G01N21/956 Z ,  H01L21/02 Z ,  H01L21/66 Z ,  H01L21/66 A

Fターム (17件)：

2G051AA42 ,  2G051AA51 ,  2G051AA73 ,  2G051AB02 ,  2G051EA12 ,  2G051EA14 ,  2G051EA21 ,  2G051EB05 ,  2G051EC01 ,  2G051ED22 ,  2G051ED23 ,  4M106AA01 ,  4M106AA10 ,  4M106CA38 ,  4M106DA20 ,  4M106DJ20 ,  4M106DJ27

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 欠陥種別判定装置及びプロセス管理システム
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-157424   出願人：オリンパス光学工業株式会社