特許
J-GLOBAL ID:200903085200997442
無電解ニッケルめっき浴組成物およびそれを用いて形成された無電解ニッケル皮膜を有するめっき形成体
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
皿田 秀夫 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-138390
公開番号(公開出願番号):特開2000-328254
出願日: 1999年05月19日
公開日(公表日): 2000年11月28日
要約:
【要約】【課題】 ガラス基体ないしセラミック基体をベース基体として用いた場合において、ニッケル皮膜との密着強度が格段と向上する無電解ニッケルめっき浴組成物およびそれを用いて形成された無電解ニッケル皮膜を有するめっき形成体を提供する。【解決手段】 ガラス基体ないしセラミック基体の上に無電解ニッケル皮膜を被着させるための無電解ニッケルめっき浴組成物であって、該組成物は、必須添加剤として、ビスマス、テルルの中から選ばれた少なくとも1種を含有してなるように構成される。
請求項(抜粋):
ガラス基体ないしセラミック基体の上に無電解ニッケル皮膜を被着させるための無電解ニッケルめっき浴組成物であって、該組成物は、必須添加剤として、ビスマス、テルルの中から選ばれた少なくとも1種を含有してなることを特徴とする無電解ニッケルめっき浴組成物。
Fターム (9件):
4K022AA03
, 4K022AA04
, 4K022AA44
, 4K022BA14
, 4K022DA01
, 4K022DB01
, 4K022DB02
, 4K022DB07
, 4K022DB08
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