特許
J-GLOBAL ID：200903085212805352
半導体排ガス除害方法とその装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
森 義明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-031458
公開番号（公開出願番号）：特開平5-192534
出願日： 1992年01月21日
公開日（公表日）： 1993年08月03日
要約：
【要約】【目的】 本発明の目的は、ローコストで、有害且つ爆発性を有する危険な半導体排ガスを安定的且つ連続的、特にクリーン室内で室内を汚す事なく処理する事のできる半導体排ガス除害方法を提案することにある。【構成】 半導体製造装置(1)から排出される排ガスを真空空間(14)中に吸引した後、真空空間から徐々に引き出した排ガスを加熱して含有有害酸化成分を酸化させる事を特徴とする。
請求項（抜粋）：
半導体製造装置から排出される排ガスを真空空間中に吸引した後、真空空間から徐々に引き出した排ガスを加熱して排ガス中の含有有害酸化成分を酸化させる事を特徴とする半導体排ガス除害方法。
IPC (2件)：
B01D 53/34 120
, B01D 47/06
