特許
J-GLOBAL ID:200903085215204023

シリコーン処理粉体及びそれを含有する組成物

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 遠山 勉 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-204878
公開番号(公開出願番号):特開平9-053023
出願日: 1995年08月10日
公開日(公表日): 1997年02月25日
要約:
【要約】【課題】 優れた撥水性を有し更に特定条件下でのみ脱離可能な被膜を有する撥水化処理粉体及びこれを含有することで撥水性、安定性に優れ更に特定条件下で被着物より容易に分離可能なペイント、化粧料等の組成物を提供する。【解決手段】 一般式(I):Qn(SiO3/2)n(Qnはn価の有機基、nは2〜6の整数のいずれか1つ)で示されるユニットの少なくとも1種を主構成ユニットとし、末端が式(II):(R1)3SiO1/2(R1は同一又は異なる炭化水素基、又は水素原子の少なくとも一部がフッ素原子で置換された炭化水素基で、少なくとも一つのR1は前記フッ素置換炭化水素基)及び式(III):(R2)3SiO1/2(R2は同一又は異なる炭化水素基、又は水素原子の少なくとも一部が塩素原子又は臭素原子で置換された炭化水素基)で示されるユニットで封鎖されたシリコーンで粉体表面を処理し、更にこれをペイント組成物、化粧料等に配合する。
請求項(抜粋):
シリコーンで表面処理されたシリコーン処理粉体であって、前記シリコーンが、一般式(I):Qn(SiO3/2)n(但し、Qnはn価の有機基を表し、またnは2〜6の整数のいずれか1つを表す。)で示されるユニットの少なくとも1種を主構成ユニットとし、末端が式(II):(R1)3SiO1/2(但し、R1は互いに同一であっても異なっていてもよく、炭化水素基、又は水素原子の少なくとも一部がフッ素原子で置換された炭化水素基を表し、且つ三つのR1の内、少なくとも一つは前記フッ素置換炭化水素基でなければならない。)で示されるユニット又は式(III):(R2)3SiO1/2(但し、R2は互いに同一であっても異なっていてもよく、炭化水素基、又は水素原子の少なくとも一部が塩素原子又は臭素原子で置換された炭化水素基を表す。)で示されるユニットで封鎖され、封鎖末端に式(II)で示されるユニット及び式(III)で示されるユニットをそれぞれ少なくとも1つ有するシリコーンであるシリコーン処理粉体。
IPC (4件):
C09C 3/12 PCH ,  A61K 7/00 ,  C09D 5/00 PPG ,  C09D 5/20 PQT
FI (4件):
C09C 3/12 PCH ,  A61K 7/00 J ,  C09D 5/00 PPG ,  C09D 5/20 PQT

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