特許

J-GLOBAL ID：200903085217880590

光導波路素子の製造方法

発明者： 山本 裕之
出願人/特許権者： シャープ株式会社
代理人 (1件)： 原 謙三
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-336033
公開番号（公開出願番号）：特開2000-162458
出願日： 1998年11月26日
公開日（公表日）： 2000年06月16日
要約：

【要約】【課題】 充分な厚みの光導波路を備えた光導波路素子を製造する。【解決手段】 基板1上のデバイス形成部分1a間を高さ数十μm以上の格子状の壁1bで仕切る。この状態で光導波路材料4をスピンコートする。この壁1bにより仕切られた凹部1cに光導波路材料4が流れ込むので、1層分の塗布で厚さ数十μmの層が形成され、これを硬化処理することにより厚膜の光導波路5が形成できる。

請求項（抜粋）：

光導波路形成面に光導波路材料を塗布後、該光導波路材料を硬化させて光導波路を形成する光導波路素子の製造方法において、上記光導波路形成面上に、目的物である光導波路素子が形成される領域同士を仕切る壁を形成し、上記光導波路形成面上に、上記光導波路材料を塗布し、上記光導波路材料を硬化することを特徴とする光導波路素子の製造方法。

IPC (2件)：

G02B 6/13 ,  G02B 6/12

FI (2件)：

G02B 6/12 M ,  G02B 6/12 N

Fターム (8件)：

2H047KA05 ,  2H047MA05 ,  2H047PA24 ,  2H047PA28 ,  2H047QA05 ,  2H047RA08 ,  2H047TA43 ,  2H047TA44