特許
J-GLOBAL ID：200903085230489549

静電チャック

発明者：
口町 和一

口町 和一 について


出願人/特許権者：
京セラ株式会社

京セラ株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-315746
公開番号（公開出願番号）：特開2004-152950
出願日： 2002年10月30日
公開日（公表日）： 2004年05月27日
要約：
【課題】静電チャックの絶縁膜が絶縁破壊したり、ウェハを取り外す際に、残留吸着が発生する。【解決手段】セラミック基体3の一方の主面に吸着用電極4を設け、該吸着用電極4の上に絶縁膜を備え、その上面をウェハを載せる吸着面2aとした静電チャック1において、前記絶縁膜は酸化物または窒化物からなる均一な非晶質セラミックから成り、その厚みを10〜100μmとする。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
セラミック基体の一方の主面に吸着用電極を設け、該吸着用電極の上に絶縁膜を備え、その上面をウェハを載せる吸着面とした静電チャックにおいて、前記絶縁膜は酸化物または窒化物からなる均一な非晶質セラミックから成り、その厚みが10μmより大きく100μm以下であることを特徴とする静電チャック。
IPC (3件)：
H01L21/68 ,  H01L21/027 ,  H02N13/00
FI (3件)：
H01L21/68 R ,  H02N13/00 D ,  H01L21/30 503C
Fターム (12件)：
5F031CA02 ,  5F031CA05 ,  5F031HA02 ,  5F031HA03 ,  5F031HA17 ,  5F031HA19 ,  5F031HA33 ,  5F031MA27 ,  5F031MA28 ,  5F031MA32 ,  5F031NA05 ,  5F046CC08
引用特許：
審査官引用 (5件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM