特許
J-GLOBAL ID：200903085239243607
液晶表示装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
須山 佐一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-307969
公開番号（公開出願番号）：特開平7-159809
出願日： 1993年12月08日
公開日（公表日）： 1995年06月23日
要約：
【要約】【目的】 ガラス基板のような透明絶縁性基板内部からのナトリウム汚染の問題を解消して、低コストなガラス基板のような透明絶縁性基板を用いた信頼性が高く耐久性の良好な液晶表示装置を実現する。【構成】 ガラス基板1のような透明絶縁性基板内部から析出してくるナトリウムのようなアルカリ金属類などによる不純物汚染はゲッタリング層としてのPSG膜2に捕われるので、バッファー層3の上に形成された活性層4に対しては不純物汚染が拡がることを防止することができる。さらに本発明の液晶表示装置においては、アニール処理などの加熱工程を通すことによりPSG膜2(またはBPSG膜)の平坦性が極めて良好となり、透明絶縁性基板の表面荒れの影響を抑えることができるという利点もある。
請求項（抜粋）：
絶縁性基板の第1主面上に、画素電極と、該画素電極に画像を表示するための電圧を印加する薄膜トランジスタとを備えた薄膜トランジスタアレイ基板と、対向電極を備えた対向基板であって前記薄膜トランジスタアレイ基板の画素電極と前記対向電極との間に間隙を有して対向するように配置された対向基板と、周囲を封止されて前記間隙に封入・挟持される液晶層とを有する液晶表示装置において、前記絶縁性基板と前記薄膜トランジスタの半導体層との間に燐を含む絶縁膜から形成されてアルカリ金属不純物を吸収するゲッタリング層と、前記ゲッタリング層を覆うように、燐および硼素を不純物として含まないシリコン酸化膜から形成されたバッファー層とを具備することを特徴とする液晶表示装置。
IPC (2件)：
G02F 1/136 500
, G02F 1/1333 505
