特許
J-GLOBAL ID：200903085249519724
光学素子成形型及びその製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高石 橘馬
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-329737
公開番号（公開出願番号）：特開2003-137565
出願日： 2001年10月26日
公開日（公表日）： 2003年05月14日
要約：
【要約】【課題】 保護膜が剥離せず、耐久性に優れた光学素子成形型及びその製造方法を提供する。【解決手段】 本発明の光学素子成形型は基材1上に保護膜2を形成してなり、保護膜2は、密度が連続的又は段階的に変化する膜により形成されていることを特徴とする。これにより成形型を繰り返し加熱冷却した際の応力が緩和され、膜の剥離を防止し、成形型の耐久性を向上させることができる。
請求項（抜粋）：
基材上に保護膜を形成してなる光学素子成形型において、前記保護膜は、密度が連続的又は段階的に変化する膜により形成されていることを特徴とする光学素子成形型。
IPC (2件)：
FI (2件)：
C03B 11/00 M
, G02B 3/00 Z
