特許

J-GLOBAL ID：200903085259838160

オキシラン化合物の製造方法

発明者： 志賀 紀仁 ,  笠井 幹生 ,  河村 保夫
出願人/特許権者： 日産化学工業株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-376967
公開番号（公開出願番号）：特開2002-179663
出願日： 2000年12月12日
公開日（公表日）： 2002年06月26日
要約：

【要約】【課題】 反応性の高い塩素原子とエポキシ基を有し、接着剤、および電子材料や建築分野等で使用されるエポキシ樹脂、耐熱性ポリマー等の合成原料として有用なオキシラン化合物の製造に関する。【解決手段】 式(1):【化1】(式中、R1、R2及びR3は水素原子または、炭素数1〜4のアルキル基を表す。)で表されるアリルクロライド類を、有機溶媒中で、タングステン酸、りん酸、及び4級アンモニウム塩の存在下に、過酸化水素によって反応系内にヘテロポリ酸を形成させエポキシ化する反応において、反応系内のpHを1.6〜2.0に制御することを特徴とする式(2):【化2】(式中、R1、R2及びR3は水素原子または、炭素数1〜4のアルキル基を表す。)で表されるオキシラン化合物の製造方法である。

請求項（抜粋）：

式(1):【化1】(式中、R1、R2及びR3は水素原子または、炭素数1〜4のアルキル基を表す。)で表されるアリルクロライド類を、有機溶媒中で、タングステン酸、りん酸、及び4級アンモニウム塩の存在下に、過酸化水素によって反応系内にヘテロポリ酸を形成させエポキシ化する反応において、反応系内のpHを1.6〜2.0に制御することを特徴とする式(2):【化2】(式中、R1、R2及びR3は水素原子または、炭素数1〜4のアルキル基を表す。)で表されるオキシラン化合物の製造方法。

IPC (3件)：

C07D301/12 ,  C07D303/08 ,  C07B 61/00 300

FI (3件)：

C07D301/12 ,  C07D303/08 ,  C07B 61/00 300

Fターム (8件)：

4C048AA01 ,  4C048BB02 ,  4C048BB04 ,  4C048CC01 ,  4C048UU03 ,  4C048XX02 ,  4H039CA63 ,  4H039CC40