特許
J-GLOBAL ID：200903085266006030
リトグラフ装置およびデバイス製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
浅村 皓
, 浅村 肇
, 吉田 裕
, 岩本 行夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-207959
公開番号（公開出願番号）：特開2005-051231
出願日： 2004年07月15日
公開日（公表日）： 2005年02月24日
要約：
【課題】液浸投影露光装置において、基板および浸漬液の温度勾配による画像のゆがみを減じる。【解決手段】投影露光装置PLの最終段の部材、基板および浸漬液体の温度を共通の目標温度T4に調整する温度制御器を含む浸漬リトグラフ装置であって、これら構成部材の全温度を調整し、温度勾配を減少させることで、画像形成の整合性と全体的性能を向上させる。使用する手段は、フィードバック回路によって浸漬液の流速および温度を制御することを含む。【選択図】図4
請求項（抜粋）：
放射線ビームを調節するように構成された照射装置と、
放射線ビームの断面にパターンを与えてパターン化された放射線ビームを形成することのできるパターン付与装置を支持するように構成された支持体と、
基板を保持するように構成された基板テーブルと、
パターン化された放射線ビームを前記基板の目標部分に投影するように構成された投影装置と、
前記投影装置の最終部材と前記基板との間のスペースを少なくとも部分的に液体で満たすための液体供給装置とを含むリトグラフ投影装置において、
前記液体供給装置が、前記投影装置の前記最終部材、前記基板、および、前記液体の温度を共通の目標温度に調整するための温度制御器を含むことを特徴とするリトグラフ投影装置。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (4件)：
5F046BA04
, 5F046BA05
, 5F046DA07
, 5F046DA26
