特許

J-GLOBAL ID：200903085269727048

レジスト処理装置用チャック、及びウエハ洗浄方法

発明者： 梅元 明美 ,  谷口 慎一郎 ,  前田 裕二 ,  末永 隆三 ,  下窪 光治
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 船橋 國則
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-116749
公開番号（公開出願番号）：特開平8-316293
出願日： 1995年05月16日
公開日（公表日）： 1996年11月29日
要約：

【要約】【目的】 汚染されたチャック縁部によりウエハが汚れることなく、しかも、未洗浄部を発生させないレジスト処理装置用チャック、及びウエハ洗浄方法を提供する。【構成】 ウエハWとの接触面25aより低く形成された円環状の非接触面27を、チャック上面の縁部に設ける。ウエハ洗浄方法は、縁部に非接触面27を有するチャック上面にウエハWを真空吸着して回転させる工程と、チャック裏面に設けられた円環状のリンス液流入溝へリンス液を放出することにより、リンス液流入溝と連通する非接触面の穴から遠心力によってリンス液を放出させ、チャック外周より半径方向内側のウエハ裏面にリンス液をかける工程とからなる。

請求項（抜粋）：

上面にウエハを真空吸着して回転させる円盤状のレジスト処理装置用チャックであって、チャック上面の縁部に設けられ前記ウエハとの接触面より低く形成された円環状の非接触面を具備したことを特徴とするレジスト処理装置用チャック。

IPC (5件)：

H01L 21/68 ,  B23Q 3/08 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/304 341 ,  H01L 21/304

FI (6件)：

H01L 21/68 P ,  B23Q 3/08 A ,  H01L 21/304 341 M ,  H01L 21/304 341 C ,  H01L 21/30 564 C ,  H01L 21/30 569 C