特許

J-GLOBAL ID：200903085281076982

分光分析装置およびレーザラマン分光分析装置、これを用いた分光分析法

発明者： 濱野 力
出願人/特許権者： 東芝セラミックス株式会社
代理人 (1件)： 波多野 久 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-239934
公開番号（公開出願番号）：特開2002-055044
出願日： 2000年08月08日
公開日（公表日）： 2002年02月20日
要約：

【要約】【課題】試料以外の散乱光による光学的な汚染によるS/B比の低下を防止できる分光分析装置を提供する。また、測定対象が微量でスペクトルのピーク自体が小さな場合にも、正確かつ再現性よく測定が行える分光分析法を提供する。【解決手段】試料Sに特定波長の電磁波を照射する電磁波発生装置2と、この電磁波発生装置2から発する電磁波が照射され、試料Sを横切りもしくは屈折された電磁波、または、試料Sから散乱する電磁波を検出する電磁波検出器6とを有する分光分析装置において、前記電磁波検出器6の周辺部6eを適宜マスキング状態にできるようにした分光分析装置。

請求項（抜粋）：

試料に特定波長の電磁波を照射する電磁波発生装置と、この電磁波発生装置から発する電磁波が照射され、試料を透過もしくは反射された電磁波、または、試料から散乱する電磁波を検出する電磁波検出器とを有する分光分析装置において、前記電磁波検出器の周辺部を適宜マスキング状態にできるようにしたことを特徴とする分光分析装置。

IPC (4件)：

G01N 21/27 ,  G01J 3/28 ,  G01J 3/44 ,  G01N 21/65

FI (4件)：

G01N 21/27 B ,  G01J 3/28 ,  G01J 3/44 ,  G01N 21/65

Fターム (37件)：

2G020AA03 ,  2G020BA02 ,  2G020BA15 ,  2G020CA04 ,  2G020CB23 ,  2G020CC26 ,  2G020CC42 ,  2G020CD04 ,  2G020CD13 ,  2G020CD24 ,  2G020CD32 ,  2G020CD36 ,  2G043AA06 ,  2G043BA17 ,  2G043CA05 ,  2G043EA03 ,  2G043FA05 ,  2G043JA01 ,  2G043JA02 ,  2G043KA01 ,  2G043KA09 ,  2G043LA03 ,  2G043MA01 ,  2G043NA01 ,  2G059AA01 ,  2G059BB08 ,  2G059CC02 ,  2G059EE03 ,  2G059EE12 ,  2G059GG01 ,  2G059JJ01 ,  2G059JJ25 ,  2G059JJ30 ,  2G059KK04 ,  2G059LL04 ,  2G059MM01 ,  2G059NN01