特許

J-GLOBAL ID：200903085293197726

外部電圧場の適用による電気浸透の制御のための化学的表面

発明者： マーク・エー・ヘイズ
出願人/特許権者： アリゾナ・ボード・オブ・リージェンツ
代理人 (1件)： 志賀 正武 (外7名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-534865
公開番号（公開出願番号）：特表2002-505937
出願日： 1999年03月03日
公開日（公表日）： 2002年02月26日
要約：

【要約】本発明は、単一の脱離基を有するオルガノシランと、任意にセラミックオキシドとを用いて表面を処理することにより、電気浸透流を制御するための方法に関する。この保護被覆は、放射電圧場を適用することにより、電気浸透流の制御および安定性を増大させる。

請求項（抜粋）：

表面ヒドロキシル基を有する基質と、単一の脱離基を有する第一のトリオルガノシランを前記基質と反応させることによって形成された成分を含む前記基質上の被覆とを含む電気浸透表面であって、約2ないし約11のpHの範囲にわたって安定である、電気浸透表面。

IPC (4件)：

B01D 57/02 ,  B01D 61/56 ,  B03C 5/00 ,  G01N 27/447

FI (4件)：

B01D 57/02 ,  B01D 61/56 ,  B03C 5/00 Z ,  G01N 27/26 331 G

Fターム (10件)：

4D006GA01 ,  4D006GA18 ,  4D006MA09 ,  4D006MB12 ,  4D006MC03X ,  4D006MC65X ,  4D006MC73X ,  4D054FB03 ,  4D054FB08 ,  4D054FB20