特許

J-GLOBAL ID：200903085305285731

透明導電性膜の形成方法、アレイ基板および液晶表示装置

発明者： 日高 浩二 ,  大塚 茂樹
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (1件)： 樺澤 襄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-222484
公開番号（公開出願番号）：特開2002-038262
出願日： 2000年07月24日
公開日（公表日）： 2002年02月06日
要約：

【要約】【課題】 製品歩留を向上できる透明導電性膜の形成方法を提供する。【解決手段】 チャンバ内でスパッタリングによりガラス基板にITO膜を形成する。ガラス基板へのITO膜の積算した膜厚が240μmを越えるとパーティクル数が増加する。ガラス基板へのITO膜の積算した膜厚が240μm以下の状態で、チャンバ内の防着板の表面およびターゲットの非エロージョン領域に堆積したパーティクルを除去する。ガラス基板に付着するパーティクル数の増加を防止し、製品歩留まりが向上する。

請求項（抜粋）：

チャンバ内でスパッタリングにより被処理体に透明導電性膜を形成する透明導電性膜の形成方法であって、前記被処理体への前記透明導電性膜の積算成膜厚が240μm以下の状態で、前記チャンバ内を掃除することを特徴とした透明導電性膜の形成方法。

IPC (5件)：

C23C 14/34 ,  C23C 14/00 ,  C23C 14/08 ,  G02F 1/1343 ,  H01B 13/00 503

FI (6件)：

C23C 14/34 R ,  C23C 14/34 M ,  C23C 14/00 B ,  C23C 14/08 D ,  G02F 1/1343 ,  H01B 13/00 503 B

Fターム (15件)：

2H092HA03 ,  2H092HA04 ,  2H092MA05 ,  2H092MA35 ,  2H092NA29 ,  2H092PA01 ,  4K029AA09 ,  4K029BA50 ,  4K029BC09 ,  4K029BD00 ,  4K029CA05 ,  4K029DA10 ,  4K029FA09 ,  5G323BA02 ,  5G323BB05