特許

J-GLOBAL ID：200903085324552422

焼付装置およびこれを備えた写真処理装置

発明者： 西川 英利 ,  塚本 和也
出願人/特許権者： ノーリツ鋼機株式会社
代理人 (1件)： 原 謙三
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-321657
公開番号（公開出願番号）：特開2001-142159
出願日： 1999年11月11日
公開日（公表日）： 2001年05月25日
要約：

【要約】【課題】 焼付画像の各画素における色ずれが発生せず、大型の印画紙に対しても焼き付けが可能で、かつ、製造コストおよび装置自体のコストの安い焼付装置を提供する。【解決手段】 LCS9R・9G・9Bを光軸方向に重ねて配置するとともに、各LCS9R・9G・9Bから出射された光を、それぞれロッドレンズアレイ10R・10G・10Bを介して印画紙P上に照射する。この際に、任意の1つのLCSの光量制御領域における光軸が、残りのLCSにおける透明領域を通過しているとともに、各ロッドレンズアレイが、互いに異なる焦点距離を有しており、各LCSの光量制御領域が、対応するロッドレンズアレイにおける光の入射側の焦点位置に位置するように、各構成を配置する。

請求項（抜粋）：

感光材料を相対的に移動させることによって走査露光を行う焼付装置であって、画像情報に応じて各画素毎に出射する単色光の光量を制御するとともに、各画素が、主走査方向に並んで配置されている光量制御領域と、光を透過させる透明領域とを備えた、単色光の種類毎に複数設けられた光量制御手段と、上記光量制御手段の光の出射側にそれぞれ設けられ、入射側の焦点距離上に存在する上記光量制御手段における画素からの光を、その相対位置を変化させずに、出射側の焦点距離上に配置された感光材料上に投影する投影手段とを備え、上記の複数の光量制御手段が、光軸の方向に対して重なるように設けられているとともに、任意の1つの光量制御手段の光量制御領域における光軸が、残りの光量制御手段における透明領域を通過しているとともに、上記の各投影手段が、互いに異なる焦点距離を有しており、上記各光量制御手段の光量制御領域が、対応する投影手段における光の入射側の焦点位置に位置していることを特徴とする焼付装置。

Fターム (3件)：

2H110AA14 ,  2H110AB09 ,  2H110CD17