特許

J-GLOBAL ID：200903085327180470

レーザアニール装置

発明者： 足達 勇治 ,  天野 修臣 ,  小西 良一 ,  住田 賢二 ,  北井 崇博
出願人/特許権者： 松下電器産業株式会社
代理人 (1件)： 森本 義弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-059527
公開番号（公開出願番号）：特開2000-260730
出願日： 1999年03月08日
公開日（公表日）： 2000年09月22日
要約：

【要約】【課題】 レーザ光をアニール室に導入する窓材への汚損物の付着を防ぎ、窓材の交換のサイクルを延長できるレーザアニール装置の提供を目的とする。【解決手段】 アニール室2に連接した補助室7の奥端側に窓材4を配設し、好ましくは前記補助室7へ供給孔8から不活性ガスを供給して同じ補助室7の排気孔9から排気する。これによって、アニール室2から窓材4へ汚損物の到達が低減され、メンテナンスサイクルを長くできる。

請求項（抜粋）：

レーザ透過用窓材を介してアニール室にレーザを導入して、前記アニール室に配置された基板をレーザでアニール処理するレーザアニール装置であって、前記アニール室に、前記窓材の面積を底面とする凸状の補助室を連接し、前記補助室には、アニール室に配置された前記基板から見て奥端側に前記レーザ透過用窓材を配設してレーザをアニール室に導入するように構成したレーザアニール装置。

IPC (3件)：

H01L 21/268 ,  G02F 1/136 500 ,  H01L 21/20

FI (3件)：

H01L 21/268 G ,  G02F 1/136 500 ,  H01L 21/20

Fターム (7件)：

2H092MA30 ,  2H092MA35 ,  2H092NA27 ,  2H092NA29 ,  2H092NA30 ,  5F052AA02 ,  5F052DA02