特許
J-GLOBAL ID：200903085327923014
自動焦点装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
佐藤 一雄 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-121902
公開番号（公開出願番号）：特開平6-036727
出願日： 1993年04月26日
公開日（公表日）： 1994年02月10日
要約：
【要約】【目的】 光学表面検査システム、オプトメカニカル自動焦点システム、及びそれと同様なものの標本または物体の高さまたは位置を検出するための光学システムの提供。【構成】 開示される装置は、電子ビーム15、イオンまたは他の荷電粒子を形成し、焦点18に向かって所定の軸線に沿ってビーム15を向けるための粒子ビームジェネレータを含む。物体支持手段は、物体の表面上に焦点を歪んで粒子ビーム軸線上に物体を支持する。粒子ビーム軸線に沿ったビーム発生手段と物体支持手段の相対位置を維持するための自動焦点システムの光学ビームシステム形成部分が提供される。光学ビームシステムは、光ビームを進めるための手段と、粒子ビーム軸線を横断する方向に物体表面の対して鋭角で光ビームを向けるための手段とを有する。
請求項（抜粋）：
電子、イオンまたは他の粒子を形成し、所定の軸線に沿って前記ビームを焦点に向けるための粒子ビーム発生手段と、前記物体の表面の前記焦点を有する前記軸線に物体を支持するための物体支持手段と、前記粒子ビーム軸線に沿って前記ビーム発生手段と前記物体支持手段との相対位置を維持するための自動焦点装置において光ビームを進めるための手段を有する光ビーム装置と、前記粒子ビーム軸線を横断する方向に及び前記物体面に鋭角に前記光ビームを向け、前記物体面上に光ビームの第1の焦点を形成するための手段と、前記ビーム発生手段と前記軸線に沿った前記物体支持手段との相対位置の変化が前記相対位置の変化を示す前記第2の焦点の位置の変化を生じるように前記光ビームからの放射を第1の焦点に収集し、前記ビームの第1の焦点の近傍にビームの第2の焦点を形成するために前記第1の焦点に前記物体面の曲率の中心を有する球形ミラーとを有する粒子ビーム装置を有する自動焦点装置。
IPC (4件)：
H01J 37/21
, G02B 7/28
, G02B 7/198
, H01J 37/22
G02B 7/11 J
, G02B 7/18 B
