特許
J-GLOBAL ID：200903085329284515
パルス合成器
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
半田 昌男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-349624
公開番号（公開出願番号）：特開平7-199241
出願日： 1993年12月28日
公開日（公表日）： 1995年08月04日
要約：
【要約】【目的】 構成が簡易で、しかも安価なパルス合成器を提供する。【構成】 パルス合成器は、多孔質シリコン膜10を用いて形成したものである。多孔質シリコンは、入射光の強度が十分小さいときには、光の吸収が弱く、入射光の強度がしきい値以上に大きくなると、光の吸収が急に強くなり、透過光の強度が飽和するという光誘導吸収効果を有する。多孔質シリコン膜10はたとえば陽極化成法を用いて作製することができる。かかるパルス合成器では、しきい値よりも小さい一定強度のレーザー光L01と所定パルス幅を有するレーザー光L11とを多孔質シリコン膜10に入射させて合成し、レーザー光L11によって、合成された光に対する多孔質シリコン膜10の透過率を制御することにより、レーザー光L01を所望波形の光に変えて出力する。
請求項（抜粋）：
所望波形の光を合成するパルス合成器において、光誘導吸収効果を有する多孔質シリコンを用いて形成したことを特徴とするパルス合成器。
IPC (4件)：
G02F 1/35
, G02B 5/18
, G02B 6/00
, H01S 3/10
