特許

J-GLOBAL ID：200903085340296665

多孔質体のエッチング方法及び多孔質体のエッチング装置

発明者： 坂口 清文
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 山下 穣平
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-300597
公開番号（公開出願番号）：特開2000-133632
出願日： 1998年10月22日
公開日（公表日）： 2000年05月12日
要約：

【要約】【課題】 反応生成気体の発生量を抑制し、エッチングの均一化を図る。【解決手段】 多孔質体をエッチング液中でエッチングするエッチング方法において、前記エッチング液を脱気処理しながら前記エッチングを行う。

請求項（抜粋）：

多孔質体をエッチング液中でエッチングするエッチング方法において、前記エッチング液を脱気処理しながら前記エッチングを行うことを特徴とする多孔質体のエッチング方法。

IPC (3件)：

H01L 21/306 ,  C23F 1/08 101 ,  H01L 21/308

FI (4件)：

H01L 21/306 B ,  C23F 1/08 101 ,  H01L 21/308 B ,  H01L 21/306 J

Fターム (26件)：

4K057WA19 ,  4K057WA20 ,  4K057WB06 ,  4K057WB20 ,  4K057WD03 ,  4K057WE02 ,  4K057WE07 ,  4K057WF10 ,  4K057WH01 ,  4K057WH10 ,  4K057WM03 ,  4K057WM15 ,  4K057WM19 ,  4K057WM20 ,  4K057WN01 ,  5F043AA09 ,  5F043AA40 ,  5F043BB01 ,  5F043BB28 ,  5F043DD30 ,  5F043EE03 ,  5F043EE05 ,  5F043EE09 ,  5F043EE22 ,  5F043EE24 ,  5F043EE25