特許
J-GLOBAL ID：200903085349870984
連続熱処理装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
逢坂 宏
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-034238
公開番号（公開出願番号）：特開平5-208261
出願日： 1992年01月23日
公開日（公表日）： 1993年08月20日
要約：
【要約】【構成】装置本体(1) 内に予熱領域(32)、リフロー領域(33)、冷却領域(34)が配され、予熱領域には予熱用面状ヒータ(3A)、(3B)、(3C)が設けられ、リフロー領域に最も近い面状ヒータ(3C)に冷却プレート(5) が併設され、リフロー領域にはリフロー用ヒータ(10)とヒータ(10)からの熱エネルギーを予熱領域、冷却領域に対して遮蔽するヒータ収容チャンバ(7) 、熱遮蔽板(8A)、(8B)が設けられ、冷却領域には水冷ジャケット(19)が設けられ、装置本体内で素子を取付けたプリント基板(W)を搬送するメッシュベルト(27)が設けられ、連続半田リフロー装置が構成される。【効果】冷却プレート(5) とチャンバ(7) 、熱遮蔽板(8A)、(8B)とによって予熱領域の加熱が防止されると共に、リフロー温度の加熱時間が長過ぎぬようになる。その結果、装置本体(1) を長くしかつ搬送速度を速めなくとも設定通りの熱処理が遂行され、装置を小型にでき、生産性も向上する。
請求項（抜粋）：
熱処理装置本体内に、被処理物を本来の熱処理温度よりも低温に予熱する予熱領域、前記被処理物を前記熱処理温度に加熱する高温加熱領域及び前記被処理物を冷却する冷却領域がこの順に配され、前記予熱領域には予熱用の第一の加熱手段が設けられ、前記高温加熱領域に最も近くに設置された前記第一の加熱手段にこれを冷却するための第一の冷却手段が併設され;前記高温加熱領域には被処理物加熱用の第二の加熱手段とこの第二の加熱手段からの熱エネルギーを前記予熱領域及び前記冷却領域に対して遮蔽する熱エネルギー遮蔽手段とが設けられ;前記冷却領域には前記被処理物を冷却する第二の冷却手段が設けられ、前記被処理物を、前記各領域を前記の順に搬送する搬送手段を具備している連続熱処理装置。
IPC (5件)：
B23K 1/008
, F27B 9/12
, F27B 9/30
, H05K 3/34
, B23K101:42
