特許
J-GLOBAL ID：200903085356427310
磁気ディスク基板の表面加工方法およびその装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
京本 直樹 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-141080
公開番号（公開出願番号）：特開平7-006363
出願日： 1993年06月14日
公開日（公表日）： 1995年01月10日
要約：
【要約】【目的】研磨工具13の部材13aがなす凹みと磁気ディスク基板11との間に侵入した研磨液14を研磨工具13の往復運動により研磨面への供給・排出を短時間で繰返して行ない研磨面に常に新しい砥粒を供給し研磨能力である平滑化作用の低下をなく長時間研磨できるようにする。また、磁気ディスク基板11の半径方向にわたり同時に研磨することから極めて短時間に研磨し生産性の向上を図る。【構成】微小突起15のある磁気ディスク基板11を表面研磨し微小突起15を除去し平滑な面を得る方法およびその装置において、複数の球状部材13aを数珠状に連ねて複数の凹凸のある外形に形成するとともに磁気ディスク基板11の半径方向の研磨領域にわたる長さと略等しい長さの研磨工具13を備え、この研磨工具13の凸部を回転する磁気ディスク基板11に押圧しかつ半径方向に前記凹凸の一ピッチ程度往復運動させ研磨液を供給しながら研磨する。
請求項（抜粋）：
被加工物である磁気ディスク基板の加工面に対面して配置されかつ弾性部材で支持されるとともに球状外郭面をもつ複数の部材を連ねてなる数珠状の研磨工具を備え、この研磨工具を回転する前記磁気ディスク基板に押し付けるとともに研磨液を供給しながら該磁気ディスク基板の半径方向に往復運動させ研磨することを特徴とする磁気ディスク基板の表面加工方法。
IPC (3件)：
G11B 5/84
, B24B 37/00
, B24B 37/04
