特許

J-GLOBAL ID：200903085357382891

ディストーション計測方法

発明者： 井上 冬彦
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 大森 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-320431
公開番号（公開出願番号）：特開平8-181051
出願日： 1994年12月22日
公開日（公表日）： 1996年07月12日
要約：

【要約】【目的】 ディストーション計測用のパターンの計測精度を高めることにより、投影光学系のディストーションを高精度に計測する。【構成】 最初の露光でウエハ上に露光量E0 /2でレチクル上の評価用マークの像20B,21Bを露光する。次に、中央の評価用マークの像20B上に重ねて同じマークの像20C0 を露光し、レチクルの中央の評価用マークの像と周辺の評価用マークの像21Bとの設計上の間隔分だけウエハステージをステッピングして、像21Bの上に露光量E0 /2で中央の評価用マークの像20C1 を露光する。現像後に中央の2つのマークの像20B,20C0 の重なり部20Dの幅L0 と、周辺の2つの像21B,21C1 の重なり部21Dの幅L1 を計測し、両者の幅の差分を求める。

請求項（抜粋）：

マスク上の転写用のパターンの像を感光基板上に露光する投影光学系と、前記感光基板を前記投影光学系の光軸に垂直な平面内で移動させる基板ステージとを有する露光装置の前記投影光学系のディストーションを評価する方法において、前記マスクとして複数の評価用マークが形成された評価用マスクを用い、前記基板ステージ上に評価用感光基板を載置し、前記複数の評価用マークの前記投影光学系を介した像を前記評価用感光基板上に露光する第1工程と;前記複数の評価用マーク内の所定個数の評価用マークの前記投影光学系を介した像を、前記基板ステージを駆動して、前記投影光学系にディストーションが無いものとした場合に前記評価用感光基板上の前記第1工程で露光された像に完全に重なる位置関係でそれぞれ二重露光する第2工程と;前記第1工程及び第2工程でそれぞれ露光された前記評価用マークの像の重なり部の幅から前記投影光学系のディストーションを求める第3工程と;を有することを特徴とするディストーション計測方法。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/00

FI (3件)：

H01L 21/30 516 A ,  H01L 21/30 514 A ,  H01L 21/30 516 D