特許

J-GLOBAL ID：200903085364775963

有機ハロゲン化合物汚染物の浄化方法

発明者： 下村 達夫 ,  片岡 直明
出願人/特許権者： 株式会社荏原製作所
代理人 (1件)： 萩野 平 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-223127
公開番号（公開出願番号）：特開平11-114548
出願日： 1998年08月06日
公開日（公表日）： 1999年04月27日
要約：

【要約】【課題】 還元脱ハロゲン反応において副次的に生じる硫黄系の悪臭ガスや可燃性ガスの生成、および土壌の過度の変色等を防ぎ、経済的かつ効率的に脱ハロゲン化を行う方法を提供する。【解決手段】 有機ハロゲン化合物の汚染物を浄化する方法において、該汚染物に還元剤、酸化態窒素および有機態炭素を添加し、中性条件下で分解浄化することを特徴とし、前記酸化態窒素および有機態炭素を添加する条件として、酸化態窒素を有機態炭素の20〜50wt%の比率で添加することが好ましく、前記還元剤が標準電極電位130mV〜-2400mVである還元剤であることが好ましい。

請求項（抜粋）：

有機ハロゲン化合物の汚染物を浄化する方法において、該汚染物に還元剤、酸化態窒素および有機態炭素を添加し、中性条件下で分解浄化することを特徴とする汚染物の浄化方法。

IPC (7件)：

B09C 1/10 ZAB ,  A62D 3/00 ZAB ,  B09C 1/02 ,  B09C 1/08 ,  C02F 1/70 ZAB ,  C02F 3/00 ZAB ,  C02F 11/02

FI (6件)：

B09B 3/00 ZAB E ,  A62D 3/00 ZAB ,  C02F 1/70 ZAB Z ,  C02F 3/00 ZAB D ,  C02F 11/02 ,  B09B 3/00 304 K