特許

J-GLOBAL ID：200903085396099978

ヒドリドシランの不均化によるジオルガノシランの合成方法

発明者： ルビンスタイン スラウォミール ,  セラ ジェイムス アンソニー ,  ショイノフスキー ユリアン ,  フォルチュニアク ウィトルド ,  クリャタ ヤン
出願人/特許権者： モーメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・インク
代理人 (2件)： 藤田 和子 ,  新山 雄一
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-519254
公開番号（公開出願番号）：特表2009-500321
出願日： 2005年08月29日
公開日（公表日）： 2009年01月08日
要約：

【課題】安全かつ簡便な条件下でジオルガノシランをオンデマンドで製造する方法の提供。具体的には1つ以上のSiH結合を含んでなるシロキサンの不均化によるジオルガノシランの簡便な調製方法の提供。【解決手段】ルイス酸触媒の存在下、SiH結合を含んでなるシロキサンを不均化反応させ、ケイ素原子における水素とシロキサン結合の置換を行わせる。この急速な反応により、最終的にジオルガノシラン及び高分子量シロキサンを含んでなる混合生成物が得られる。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

ジオルガノシランの調製方法であって、前記方法が反応混合物中で有効量のルイス酸触媒と、1つ以上の末端SiH基及び1つ以上のシロキサン結合を含んでなるヒドリドシロキサンとを接触させることを含んでなり、それにより1つ以上のジオルガノシラン及び1つ以上のオリゴシロキサンを含んでなる混合生成物が得られる方法。

IPC (2件)：

C07F 7/08 ,  C07F 7/21

FI (3件)：

C07F7/08 B ,  C07F7/08 Y ,  C07F7/21

Fターム (19件)：

4H039CA42 ,  4H039CA92 ,  4H039CH10 ,  4H039CL00 ,  4H039CL25 ,  4H049VN01 ,  4H049VP01 ,  4H049VP10 ,  4H049VQ78 ,  4H049VQ79 ,  4H049VR11 ,  4H049VR12 ,  4H049VR22 ,  4H049VR41 ,  4H049VR42 ,  4H049VS77 ,  4H049VS78 ,  4H049VT42 ,  4H049VW35

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 米国特許出願公開第2004/0127668号公報
  
• 国際公開第01/74938号パンフレット
  

審査官引用 (2件)

• 特許第876708号
  
• 脱水素縮合によるシリコーンの重合及び/又は架橋用の熱活性化触媒としての硼素誘導体の使用
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2001-572620   出願人：ロディア・シミ

引用文献：

審査官引用 (1件)

• Journal of American Chemical Society, 1959, vol.81, 20 September, p.4825-4831