特許

J-GLOBAL ID：200903085411191312

反射防止膜の形成方法

発明者： 宮下 悟
出願人/特許権者： セイコーエプソン株式会社
代理人 (1件)： 鈴木 喜三郎 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-293501
公開番号（公開出願番号）：特開平7-168004
出願日： 1993年11月24日
公開日（公表日）： 1995年07月04日
要約：

【要約】【目的】 透明性基材の表面に量産効果の高い方法で信頼性の高い反射防止膜を形成することにより、視認性の高く透過率の高い光学デバイスを安価で提供する。【構成】 少なくとも以下の工程を一つ以上用いることで達成される。(1)透明性基材の表面に表面活性化処理を行なう工程。(2)透明性基材の表面にシリコン化合物を反応させてカップリング化合物層を形成する工程。(3)少なくとも重合性含フッ素有機化合物のモノマー、オリゴマー、あるいはポリマーを溶解した含フッ素有機溶液を、透明性基材の表面に0.05μmから1μmの間の規定の膜厚になるように塗布し、加熱、紫外線照射、電子線照射いずれかの方法で重合させ含フッ素高分子薄膜を形成する工程。(4)透明性基材の表面に含フッ素高分子薄膜を形成した後、電子線照射により重合の促進及び含フッ素高分子の架橋を行ない、薄膜を硬化させる工程。

請求項（抜粋）：

透明性基材の表面に表面活性化処理を行なった後、含フッ素高分子薄膜を形成することを特徴とする反射防止膜の形成方法。

IPC (4件)：

G02B 1/11 ,  C08J 7/00 ,  C08J 7/00 302 ,  C08J 7/04