特許
J-GLOBAL ID：200903085413714916

連続堆積ラインにおけるエッジ被覆

発明者：
スチュイスカイ,ミカエル

スチュイスカイ,ミカエル について


出願人/特許権者：
サンドビック インテレクチュアル プロパティー アクティエボラーグ

サンドビック インテレクチュアル プロパティー アクティエボラーグ について


代理人 (6件)： 青木 篤 ,  石田 敬 ,  古賀 哲次 ,  亀松 宏 ,  中村 朝幸 ,  永坂 友康
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-501384
公開番号（公開出願番号）：特表2009-530500
出願日： 2007年03月02日
公開日（公表日）： 2009年08月27日
要約：
連続ロール間堆積被覆装置および帯基材のエッジに連続被覆する方法が開示される。本発明は、緻密な被覆と基材との間の密着が向上した硬い、耐摩耗性被覆金属帯を得ることを目的とする。前記堆積被覆装置は、堆積領域(118)の上流のエッチング領域(116)を含む真空処理チャンバー(114);前記エッチング領域中の少なくとも1つのイオンエッチング装置(120);および前記堆積領域中の少なくとも1つの堆積装置(122)を含んでなり、前記の少なくとも1つの堆積装置が少なくとも1つのターゲット(124)を含み、前記帯基材が、前記真空処理チャンバーを通って移動する際に、前記エッチング領域中の前記の少なくとも1つのイオンエッチング装置に向かって第1エッジ部(140)を突出し、前記堆積領域中の前記の少なくとも1つの堆積装置のターゲットに向かって第1エッジ部を突出し、前記帯基材の第1エッジ部が第1遠位部に向かって第1近位部(144)から先細になっている少なくとも第1傾斜表面(142)を含み、前記の第1近位部が前記の第1遠位部より帯基材の中央領域に近く、前記第1傾斜表面が第1表面法線(150)を有し、前記の少なくとも1つの堆積装置のターゲットがターゲット法線(128)を有するターゲット表面(126)を含み、前記ターゲット法線が角度αで前記第1表面法線と交差するよう前記第1傾斜表面に対して傾斜しており、αが90°以上である。
請求項（抜粋）：
連続ロール間堆積被覆装置であって、 堆積領域の上流のエッチング領域を含む真空処理チャンバー; 前記エッチング領域中の少なくとも1つのイオンエッチング装置;および 前記堆積領域中の少なくとも1つの堆積装置を含んでなり、 前記の少なくとも1つの堆積装置が少なくとも1つのターゲットを含み、 前記帯基材が、真空処理チャンバーを通って移動する際に、前記エッチング領域中の前記の少なくとも1つのイオンエッチング装置に向かって第1エッジ部を突出し、前記堆積領域中の前記の少なくとも1つの堆積装置のターゲットに向かって第1エッジ部を突出し、 前記帯基材の第1エッジ部が第1遠位部に向かって第1近位部から先細になっている少なくとも第1傾斜表面を含み、前記の第1近位部が前記の第1遠位部より帯基材の中央領域に近く、前記第1傾斜表面が第1表面法線を有し、 前記の少なくとも1つの堆積装置のターゲットがターゲット法線を有するターゲット表面を含み、前記ターゲット法線が角度αで前記第1表面法線と交差するよう前記第1傾斜表面に対して傾斜しており、αが90°以上である装置。
IPC (1件)：
C23C 14/24
FI (1件)：
C23C14/24 T
Fターム (7件)：
4K029BA60 ,  4K029CA01 ,  4K029CA15 ,  4K029DD06 ,  4K029FA01 ,  4K029KA01 ,  4K029KA03
引用特許：
審査官引用 (4件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM