特許
J-GLOBAL ID：200903085421215236
嫌気性処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
重野 剛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-317214
公開番号（公開出願番号）：特開平11-147098
出願日： 1997年11月18日
公開日（公表日）： 1999年06月02日
要約：
【要約】【課題】 嫌気性反応槽と膜浸漬型固液分離槽とを組み合わせ、高濃度汚泥を保持することにより、高負荷処理下での高度処理を可能とする。嫌気性下での膜表面の汚染を低減させると共に、膜表面を効率的に洗浄する。【解決手段】 嫌気性反応液を分離膜3が浸漬して設置された密閉型の固液分離槽2で固液分離する。嫌気性反応槽1と固液分離槽2との間を嫌気性反応液及び消化ガスを循環させる。膜処理時には散気手段4より、消化ガスを散気して膜汚染を防止し、薬品洗浄時には散気手段4より空気を散気して洗浄効果を高める。
請求項（抜粋）：
嫌気性反応槽と分離膜が浸漬して設置された密閉型の固液分離槽と嫌気性反応槽と固液分離槽との間を嫌気性反応液を循環させる液循環路と嫌気性反応槽と固液分離槽との間を嫌気性反応ガスを循環させるガス循環路と嫌気性反応槽に設けられたガス排出管と固液分離槽に設けられた排気口と固液分離槽内の液を嫌気性反応槽に移送する移送管と固液分離槽に空気を供給する空気供給管と固液分離槽に供給された嫌気性反応ガス及び空気を分離膜の下方で放出する散気手段とを備えてなることを特徴とする嫌気性反応装置。
IPC (4件)：
C02F 3/28
, B01D 65/02 520
, B01D 65/08
, C02F 1/44
C02F 3/28 A
, B01D 65/02 520
, B01D 65/08
, C02F 1/44 K
