ポリッシング装置の砥液供給装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：熊谷隆 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-225201
公開番号（公開出願番号）：特開平7-052045
出願日： 1993年08月17日
公開日（公表日）： 1995年02月28日
要約：

【要約】【目的】砥液を常に均一の濃度砥液で間断なく供給できるポリッシング装置の砥液供給装置を提供することを目的とする。【構成】原液タンク11と、原液タンク11からの砥液原液に純水Bを加えて使用濃度以上の砥液とする第1の調整タンク12と、第1の調整タンク12からの砥液に純水Bを加えて使用濃度の砥液とする第2の調整タンク13と、第2の調整タンク13からの所定量の砥液を得、該砥液をポリッシング装置40の運転時には該ポリッシング装置40に供給し停止時には該ポリッシング装置40をバイパスして循環させる循環タンク14を具備し、砥液原液から使用濃度への調合及び使用濃度砥液のポリッシング装置40への供給を自動的に行なう制御手段を設けた。

請求項（抜粋）：

ポリッシング対象物の表面を研磨するポリッシング装置に研磨用の砥液を供給する砥液供給装置であって、砥液原液を蓄える原液タンクと、該原液タンクからの砥液原液に純水を加えて使用濃度以上の砥液とする第1の調整タンクと、該第1の調整タンクからの砥液に純水を加えて使用濃度の砥液とする第2の調整タンクと、該第2の調整タンクからの所定量の砥液を得、該砥液をポリッシング装置に運転時には該ポリッシング装置に供給し停止時には該ポリッシング装置をバイパスして循環させる循環タンクを具備し、砥液原液から使用濃度への調合及び使用濃度砥液のポリッシング装置への供給を自動的に行なう制御手段を設けたことを特徴とするポリッシング装置の砥液供給装置。

IPC (3件)：

B24B 57/02 , B24B 37/00 , H01L 21/304 321

引用特許：

審査官引用 (16件)

特開平2-167664
特開昭51-056089
特開昭62-176767

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