特許

J-GLOBAL ID：200903085439170523

ブラックマトリックス基板の製造方法

発明者： 三上 友子 ,  鈴木 基之 ,  内田 哲夫
出願人/特許権者： 東レ株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-050432
公開番号（公開出願番号）：特開平10-246804
出願日： 1997年03月05日
公開日（公表日）： 1998年09月14日
要約：

【要約】【課題】透明基板がプラスチックフィルムなどの表面性が良好でないものである場合においても、均一性が高く、ブラックマトリックスが、光学要素と対応するなど、所望の位置に正確に設けられたブラックマトリックス基板を効率的に製造する方法を提供する。【解決手段】透明基板上の一方の面に遮光性を有する遮光層を設けたブラックマトリックス基板の製造方法であって、該遮光層が少なくとも1層の感光性層を有し、透明基板側から求めるブラックマトリックスのパターンに対応した光学要素を介してエネルギー線を照射し、所望のパターンを有するブラックマトリックスを形成することを特徴とするブラックマトリックス基板の製造方法。

請求項（抜粋）：

透明基板上の一方の面に遮光性を有する遮光層を設けたブラックマトリックス基板の製造方法であって、該遮光層が少なくとも1層の感光性層を有し、透明基板側から求めるブラックマトリックスのパターンに対応した光学要素を介してエネルギー線を照射し、所望のパターンを有するブラックマトリックスを形成することを特徴とするブラックマトリックス基板の製造方法。

IPC (4件)：

G02B 5/00 ,  G02B 3/00 ,  G02F 1/1335 505 ,  G09F 9/30 313

FI (4件)：

G02B 5/00 B ,  G02B 3/00 A ,  G02F 1/1335 505 ,  G09F 9/30 313 Z