特許

J-GLOBAL ID：200903085446921178

フォトマスク製造用スポットレジスト剥膜機

発明者： 高橋 博之 ,  千葉 和明 ,  竹岡 大輔
出願人/特許権者： 凸版印刷株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-057857
公開番号（公開出願番号）：特開2002-258456
出願日： 2001年03月02日
公開日（公表日）： 2002年09月11日
要約：

【要約】【課題】レベンソン型位相シフトマスク60の製造において、シフターの深さが不足していることが判明した際に、レジスト膜の形成、電子線描画、現像を繰り返し行うことなく、石英基板1に追加したエッチングを継続して行うことができる、位相差測定用のパターンのみのレジスト膜パターン3’を剥膜するスポットレジスト剥膜機を提供すること。【解決手段】1)開口部を有するフレーム21、X-Yステージ22、ホルダー・ストッパー23で構成されるステージ部20、2)撮像・コントローラ部30、3)コーン状カバー41、薬液ノズル42、支持具43で構成される薬液噴射部40、4)薬液供給・回収部50を少なくとも具備すること。

請求項（抜粋）：

フォトマスクの製造にて用いるレジスト剥膜機において、1)上部中央に開口部を有するフレーム、該フレーム上に設けられた中央に開口部を有するX-Yステージ、該X-Yステージ上でフォトマスクの四隅を保持する位置に設けられたフォトマスクを保持固定するホルダー・ストッパーで構成されるステージ部、2)該X-Yステージの上方に設けられた撮像カメラ、及びモニタ・コントローラで構成される撮像・コントローラ部、3)該X-Yステージの下方、該撮像カメラの真下位置に設けられたコーン状カバー、及び薬液ノズル、支持具で構成される薬液噴射部、4)該薬液ノズルに薬液を供給するチューブ、バルブ、薬液タンク、薬液受皿で構成される薬液供給・回収部、を少なくとも具備することを特徴とするフォトマスク製造用スポットレジスト剥膜機。

IPC (2件)：

G03F 1/08 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

G03F 1/08 A ,  G03F 1/08 M ,  G03F 1/08 T ,  H01L 21/30 502 P

Fターム (3件)：

2H095BB03 ,  2H095BD32 ,  2H095BD40