特許

J-GLOBAL ID：200903085468266955

シリコン単結晶の格子間酸素濃度の測定方法及び測定装置

発明者： 北川原 豊 ,  窪田 寛 ,  玉塚 正郎 ,  竹中 卓夫
出願人/特許権者： 信越半導体株式会社
代理人 (1件)： 舘野 公一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-151407
公開番号（公開出願番号）：特開平5-322752
出願日： 1992年05月19日
公開日（公表日）： 1993年12月07日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】 試料の温度変化にほとんど影響されずに、安定的、かつ、正確にシリコン単結晶の格子間酸素濃度の測定を行う。【構成】 赤外分光光度計により1106cm-1の格子間酸素吸収ピークを求め、この吸収ピークに関する(光吸収係数)×〔1+a×(ピーク半値幅)〕の値、あるいは(光吸収係数)×〔1+b×(ピーク面積)/(ピーク高さ)〕の値(ここで、aあるいはbの値は、測定条件や測定装置に依存し、あらかじめ特定の測定条件及び装置について経験的に決めておくパラメータ)によりシリコン単結晶中の格子間酸素濃度を測定する。

請求項（抜粋）：

シリコン単結晶中の格子間酸素の赤外局在振動モードの吸収を利用した格子間酸素濃度測定において、1106cm-1の格子間酸素の吸収ピークを求め、この吸収ピークに関する(光吸収係数)×〔1+a×(ピーク半値幅)〕の値、あるいは(光吸収係数)×〔1+b×(ピーク面積)/(ピーク高さ)〕の値(ここで、aあるいはbの値は、測定条件や測定装置に依存し、あらかじめ特定の測定条件及び装置について経験的に決めておくパラメータ)によりシリコン単結晶中の格子間酸素濃度を測定することを特徴とするシリコン単結晶の格子間酸素濃度の測定方法。

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平1-195345
  
• 特開平2-168141
  
• 特開昭59-018650