特許

J-GLOBAL ID：200903085470403960

廃液処理方法および廃液処理システム

発明者： 藤井 渉 ,  岡田 実 ,  田辺 茂 ,  角田 務
出願人/特許権者： 三菱レイヨン株式会社 ,  三菱レイヨン・エンジニアリング株式会社 ,  日東化学工業株式会社 ,  ダイヤフロック株式会社
代理人 (1件)： 志賀 正武 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-193787
公開番号（公開出願番号）：特開平9-038699
出願日： 1995年07月28日
公開日（公表日）： 1997年02月10日
要約：

【要約】【課題】 活性汚泥法における沈殿処理後において、発生する汚泥を短時間で濃縮して安定した廃水処理を行い、さらには高い透過流速を長時間保つことのできる処理方法および処理システム。【解決手段】 廃液を曝気槽及び最終沈殿槽で処理して生じた汚泥を汚泥濃縮槽で濃縮しつつ、汚泥濃縮槽中の汚泥を膜分離槽内で分離膜モジュールを備えた膜分離装置にて濾過処理し濃縮して前記汚泥濃縮槽に返送する。汚泥濃縮槽では処理しきれない大量の余剰汚泥が汚泥濃縮槽に移送されるような状況でも、余剰汚泥の濃縮処理を短時間で行える膜分離装置にて水分を除去するので、汚泥濃縮槽の容量が不足するような事態を回避できる。

請求項（抜粋）：

廃液を最終沈殿槽で処理して生じた汚泥を汚泥濃縮槽に移送し、汚泥濃縮槽より抜出した一部の汚泥を膜分離槽内で分離膜モジュールを備えた膜分離装置にて濾過処理し濃縮して前記汚泥濃縮槽に返送することを特徴とする廃液処理方法。

IPC (3件)：

C02F 11/12 ,  C02F 1/00 ,  C02F 11/14

FI (4件)：

C02F 11/12 E ,  C02F 11/12 D ,  C02F 1/00 M ,  C02F 11/14 E