特許

J-GLOBAL ID：200903085475878095

感光性樹脂組成物積層体、レジストパターンの製造法、基板、プリント配線板の製造法、プリント配線板及び機器

発明者： 川口 卓 ,  木村 仁子
出願人/特許権者： 日立化成工業株式会社
代理人 (1件)： 若林 邦彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-029512
公開番号（公開出願番号）：特開平6-242611
出願日： 1993年02月19日
公開日（公表日）： 1994年09月02日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】 高解像度レジストハターンを得ることができる感光性樹脂組成物積層体を提供する。【構成】 支持体(a)上に、中間層(b)、感光性樹脂層(c)、場合によって保護フィルム(d)を順次積層してなる感光性樹脂組成物積層体であり、中間層(b)が、オレフィンを共重合したポリビニルアルコール等、から選ばれる少なくとも1種の化合物を主成分とし、中間層(b)と感光性樹脂層(c)が、希アルカリ水溶液で現像可能である。この感光性樹脂組成物積層体を保護フィルム(d)をはがして基材面に感光性樹脂層(c)が密着するようにしてラミネートし、支持体(a)をはがし、露出した中間層(b)上にパターンマスクを介して活性光線を照射し、その後、希アルカリ水溶液で中間層(b)及び感光性樹脂層(c)の不要部分を溶解又は分散除去し、現像することによりレジストパターンを製造する。

請求項（抜粋）：

支持体(a)上に、中間層(b)、感光性樹脂層(c)、場合によって保護フィルム(d)を順次積層してなる感光性樹脂組成物積層体であり、中間層(b)が、オレフィンを1〜20モル%共重合したポリビニルアルコール、重合度4000以上のポリエチレンオキシド、カルボキシル基含有アクリル樹脂及び二塩基酸とオレフィンの共重合物からなる群から選ばれる少なくとも1種の化合物を主成分とし、その厚みが1〜10μmであり、中間層(b)と感光性樹脂層(c)が、希アルカリ水溶液で現像可能である感光性樹脂組成物積層体。

IPC (6件)：

G03F 7/11 503 ,  G03F 7/004 512 ,  G03F 7/30 ,  G03F 7/40 521 ,  H05K 3/06 ,  H05K 3/18

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開昭59-137948
  
• 特開昭47-046102
  
• 特開昭46-002121
  
• 特開平1-282543