積層体およびその製造方法

発明者： , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：大野精市
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-200594
公開番号（公開出願番号）：特開2001-025666
出願日： 1999年07月14日
公開日（公表日）： 2001年01月30日
要約：

【要約】【課題】光触媒活性の酸化チタン膜は、チタン金属をターゲットとする反応性スパッタリングで成膜されていたが、基体温度を350°C以上の高温にする必要があり、また大きな光触媒活性を有していないという課題があった。【解決手段】酸化チタンの粒子に酸化ニオブの粒子を2.5重量%含有させた混合物からなる導電性焼結体をターゲットとする直流スパッタリングにより、ガラス基体上に光触媒活性の酸化チタン主成分の膜を成膜する。ターゲットは500Ω/□以下とし、基体温度を230°Cに加熱して行う。この光触媒活性の膜は非晶質マトリックスをベースとする膜である。

請求項（抜粋）：

減圧調整できる雰囲気内で、酸化チタンの粒子と酸化ニオブ、酸化タンタル、酸化バナジウム、酸化ジルコニウム、酸化錫、酸化クロムおよび酸化銅からなる金属酸化物群から選ばれた少なくとも1種の粒子との混合物を焼結した導電性焼結体ターゲットをスパッタリングすることにより、基体上に光触媒活性の酸化チタン主成分の膜が成膜された積層体の製造方法。

IPC (4件)：

B01J 35/02 , B01J 21/06 , B01J 37/02 301 , C23C 14/34

FI (4件)：

B01J 35/02 J , B01J 21/06 M , B01J 37/02 301 P , C23C 14/34 A

Fターム (49件)：

4G069AA01 , 4G069AA03 , 4G069AA08 , 4G069BA02A , 4G069BA02B , 4G069BA02C , 4G069BA04A , 4G069BA04B , 4G069BA04C , 4G069BA05A , 4G069BA05B , 4G069BA05C , 4G069BA48A , 4G069BC22A , 4G069BC22B , 4G069BC22C , 4G069BC31A , 4G069BC31B , 4G069BC31C , 4G069BC51A , 4G069BC51B , 4G069BC51C , 4G069BC54A , 4G069BC54B , 4G069BC54C , 4G069BC55A , 4G069BC55B , 4G069BC55C , 4G069BC56A , 4G069BC56B , 4G069BC56C , 4G069BC58A , 4G069BC58B , 4G069BC58C , 4G069EA07 , 4G069EC25 , 4G069EC26 , 4G069ED02 , 4G069EE08 , 4G069FB02 , 4K029AA09 , 4K029BA43 , 4K029BA48 , 4K029BB02 , 4K029BD00 , 4K029CA06 , 4K029DC05 , 4K029DC07 , 4K029DC09

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