特許
J-GLOBAL ID：200903085490594664
減衰全反射プリズムを用いた赤外スペクトル測定法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高橋 明夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-133370
公開番号（公開出願番号）：特開平5-322746
出願日： 1992年05月26日
公開日（公表日）： 1993年12月07日
要約：
【要約】【目的】 減衰全反射プリズムを用いて液体試料の吸収赤外スペクトルを測定する場合に、その吸収スペクトルの高感度化及び再現性向上を図る【構成】 減衰全反射プリズム1上に直接、又はスペ-サ-5の厚さの液体試料3介して中間層8で被覆された金属薄膜2を設け、中間層8と接触するように減衰全反射プリズム1上に液体試料3を導入する。中間層8は省略可、また、プリズム1上に有機薄膜7を設けてもよい。【効果】液体試料及び中間層の厚さを精密に制御できるため、減衰全反射プリズムから出射した光が全反射する際、試料中の光路長を一定に保ったまま金属と相互作用をすることができ、高感度赤外吸収スペクトルを再現性良く取得できる。
請求項（抜粋）：
赤外光を反射させつつ測定系に導く減衰全反射プリズムの光全反射面上に、直接、金属薄膜を形成し、さらにその上に液体試料を密着させ、且つ、前記金属薄膜は、前記赤外光が前記液体試料までしみ込むように薄く又は多孔質状に形成して、赤外吸収スペクトルを測定することを特徴とする減衰全反射プリズムを用いた赤外スペクトル測定法。
IPC (2件)：
引用特許：
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