特許
J-GLOBAL ID:200903085491820757
プラズマ装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
田澤 博昭 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-315565
公開番号(公開出願番号):特開平7-099351
出願日: 1993年12月15日
公開日(公表日): 1995年04月11日
要約:
【要約】【目的】 電源周波数の高低によらず、放電空間に安定的に放電プラズマを発生させる。【構成】 給電電極1,2と金属パイプ(金属体)13,23を交流的に結合するキャパシタをキャパシタンスCとした場合、これと並列にインダクタ100を挿入し、そのインダクタンスLを1/{(2πf)2 C}とすることで、キャパシタンスCの影響を打ち消すようにする。
請求項(抜粋):
給電電極に周波数fの交流電圧を印加することにより、放電空間で放電プラズマを生成するプラズマ装置において、前記給電電極とその近傍の電圧の印加されない金属体とを交流的に結合するキャパシタンスCのキャパシタに対し、並列に挿入されたインダクタンスL〔=1/{(2πf)2 C}〕のインダクタを備えたことを特徴とするプラズマ装置。
IPC (5件):
H01S 3/038
, H01S 3/00
, H01S 3/0971
, H01S 3/0975
, H05H 1/46
FI (3件):
H01S 3/03 B
, H01S 3/097 D
, H01S 3/097 B
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